尹志尧,中微半导体董事长兼总经理。创办中微半导体,并使中国半导体行业里的刻蚀机技术达到世界先进水平。这足以给在西方打压下的中国其他半导体产品以足够的启发。
先说刻蚀机在半导体行业里的作用。
芯片借助软件研发,
然后是原材料等,
接着薄膜机把材料摊开,
接着光刻机把电路图刻好,
接着刻蚀机把不用的部分剪掉,
刻蚀机的成功无疑是芯片制造领域的一大突破。
然后我们再看看尹志尧的履历。
1956年北京四中,
1962年,中国科技大学上学,
1968—1978,兰州炼油厂,中科院。
1978—1980,北京大学硕士。
1980年,美国加利福尼亚大学,物理化学博士。
1984年后,intel,LAM研究所,应用材料供职16年。
2004年回国创办中微半导体公司。
期间,美国也曾经因为专利等和中微半导体闹过矛盾后圆满解决。
如今的中微半导体刻蚀机突破了5纳米技术,打入台积电市场。
也可以说,尹志尧作为归国华人成功突破了国产半导体行业的一角。
首先尹志尧有能力,有在国外成熟半导体公司工作经历,有丰富的人脉和专利技术。然后在国内有发展到基础,受到了上海市的重视。
想当年,尹志尧也是没钱寸步难行,也是受到以前朋友资金的注入。
想当年,尹志尧也是受到应用材料的专利诉求,但成功地解决了这一矛盾。
如今,半导体制造里最难的是光刻机。
像阿斯麦尔在从DUV光刻机到EUV光刻机用了200亿欧元的投入,这是一个成熟公司的研发。而刻蚀机,尹志饶也用了20亿人民币的研发投入。
但是想都不用想,假如能投入2000亿开发出光刻机技术,我相信我们可以投。
关键是人,于是就是希望我们越来越多的人才走出去,然后再回来。只要回来的多了,自然会把中国的光刻机,乃至半导体行业推到世界先进水平。
到时,美国说,老大,咱们交朋友吗?
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